Industriellt -vakuumbeläggningssystem som integrerar magnetronförstoftning (RF/DC/HiPIMS) och katodisk ljusbågsförångning. Designad för kontinuerlig, fler-lager, legering och nano-komposit tunn-filmavsättning i produktionsskala.
Tekniska specifikationer
|
Parameter |
Specifikationsvärde |
|
Ultimat vakuumtryck |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Kammarmått |
Anpassad storlek från D 600 mm x 600 mm till D 1500 mm x 1500 mm (304/316L elektro-polerat rostfritt stål) |
|
Deponeringskällor |
Konfigurerbar: 2-6 magnetronförstoftande katoder / 2-4 bågkällor |
|
Substrat Bias Power |
0 till -1000 VDC justerbar (pulsad DC för dielektriska substrat) |
|
Enhetlighet i filmtjocklek |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Substrattemperatur |
Omgivningstemperatur till 650 grader (+/- 2 graders PID sluten-slingkontroll) |
|
Strömfördelning |
RF (13,56 MHz), DC, Pulsed DC och Mid-} Frequency (MF) med bågundertryckning |
Nyckelfunktioner
Dubbel-teknikintegration:Kombinerar sputtering (släta, amorfa sammansatta filmer) och katodbåge (hög-jonisering av metall/legering) i en nedpumpning-.
Stängd-slinga gashantering:Massflödeskontroller (MFC) parade med optisk emissionsövervakning (OEM) stabiliserar reaktiva gaspartialtryck.
Mekanisk isolering:Fler-axliga planetdrivningar isolerar mekaniska lager från processzonen och förhindrar partikelförorening.
Termisk arkitektur:Dubbel-väggiga vatten-kylda kammarväggar och strålningsskärmning förhindrar termisk distorsion under hög-drift.
Automationskärna:Siemens S7-1500 PLC och WinCC SCADA-arkitektur för förregling, gas- och effektövervakning i realtid.
Konfiguration av vakuumsystem
Grovtåg:Direkt-drivna lamellpumpar med stöd av Roots-fläktar med magnetiska vätsketätningar.
Högt vakuum:Magnetiskt leviterade turbo-molekylära pumpar (1200 - 3200 L/s) eller kryogena pumpar.
Diagnostik:Integrerade Helium-masspektrometertestportar och automatiska sekvenseringsförreglingar.
Material- och substratkompatibilitet
Målmaterial:
Metaller:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Keramik/föreningar:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Substrat:Verktygsstål (H13, M2, hårdmetallskär), titan/aluminium konstruktionslegeringar, teknisk keramik och kiselskivor.
Applikationer och beprövad prestanda
Skärverktyg:Låg-friktion, hög-hårdhet i fler-skiktsbeläggningar (TiAlN/TiN) för förlängd verktygslivslängd under torr hög-bearbetning.
Bil:Slitage och anti-beläggningar för kolvringar och bränsleinsprutningsstift.
Flyg och rymd:Oxidationsbeständigt- termisk barriär och skyddsfilmer på kompressorblad och fästelement.
Optik och elektronik:Konduktiva transparenta oxider (ITO) och optiska interferensfilter.
Anpassningsalternativ
Kammargeometri:Rektangulära lådkonfigurationer för laddning av batchställ eller cylindriska inline-geometrier.
Källa eftermontering:Utbytbara katodmonteringsflänsar för fältkonvertering till CFUBMS.
Plasmaetsning:Kaufmann-jonkanoner eller ihåliga katodkällor för -substratrengöring på plats.
Kvalitetskontroll och fabrikstestning
Vakuumintegritet:Heliumläckagetesttröskel<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Ytfinish:Kammarens inre svetsar elektro-polerade till Ra<= 0.4 um.
FETT:72-timmars kontinuerligt torrkörningstest av vakuum-, rörelse- och säkerhetsförreglingsslingor före hopsättning.
Överensstämmelsestandarder:Byggd enligt CE-maskindirektiv och ISO 9001-standarder. (Trust märkesikoner: ISO 9001, CE, UL)
Installation & teknisk support
Dokumentationspaket:P&ID-scheman, elektriska kopplingsscheman, PLC-källalogik och CE/UL-överensstämmelseunderlag.
Driftsättning:Fältingenjörer övervakar mekanisk positionering, verktygsanslutningar och läckagekontroll.
SAT & receptöverlämnande:Baslinjetestkörningar på-webbplatsen och receptoptimering.
FAQ
F: Vad är pumpens-stopptid till bastrycket?
S: När <5,0 x 10^-4 Pa inom 45 minuter under rena, torra och omgivande termiska förhållanden.
F: Kan systemet växla mellan DC- och RF-förstoftning mitt i-processen?
A: Ja. Effektmatrisen tillåter programvara-kontrollerad sekvensering mellan DC, pulsad DC och RF utan att bryta vakuum.
F: Vilka verktyg krävs på-webbplatsen?
S: Kylt vatten (15 till 20 grader vid 0,3 till 0,4 MPa), tryckluft (0,6 MPa), hög-processgaser (Ar, N2, O2 vid 99,999 %) och dedikerad 3-fas industriell kraft.
F: Hur regleras substrattemperaturen under deponering?
S: Integrerade infraröda pyrometrar i kombination med strålningsvärmare och PID-kontroll med sluten-slinga.
Populära Taggar: pvd komposit tunnfilmssystem, Kina pvd komposit tunnfilmssystem tillverkare, leverantörer, fabrik, ferroelektrisk tunn filmutrustning, industriell tunnfilmutrustning, Magnetron sputtering tunn filmutrustning, tunn filmutrustning för metalliseringsapplikationer, tunn filmutrustning för NEMS -tillverkningsapplikationer, tunn filmutrustning för smarta enhetstillverkningsapplikationer
