IBAE-systemet kombinerar elektron-stråle eller termisk förångning med en integrerad bred-jonkälla. Samtidigt jonbombardement under filmtillväxt överför kinetisk energi till kondenserande adatomer, eliminerar kolumnära mikrostrukturer och producerar tunna filmer nära-bulk-densitet med minimal fukt-inducerad spektralförskjutning.
Tekniska specifikationer
|
Parameter |
Specifikation |
|
Bastryck |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Arbetstryck |
1,0 x 10^(-1) till 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
Typ jonkälla |
Gridless End-Hall / Kaufmann Ion Source |
|
Jonstråleenergi |
50 eV till 1500 eV (sluten-slinga stabiliserad) |
|
Strömtäthet för jonstråle |
0 till 2,5 mA/cm^2 |
|
Förångningskällor |
Multi-fick E-beam Gun (4 x 15 cc till 6 x 40 cc) / motståndsbåtar |
|
Underlagshållare |
Planetrotationsfixtur med uppvärmning upp till 300 grader C |
|
Tjocklekslikformighet |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Styrsystem |
Siemens S7-1500 PLC + Industrial PC (Inficon deposition controller) |
Nyckelfunktioner
Dubbla-lägesbombning:Kinetisk energiöverföring förtätar filmer vid låga substrattemperaturer, vilket skyddar känslig optik och polymersubstrat.
Stängd-loopjonstabilisering:Integrerade massflödesregulatorer bibehåller konstant jonflöde under långa produktionskörningar, vilket säkerställer batchkonsistens.
Modulär vakuumkammare:304L struktur i rostfritt stål med elektro-polerad insida (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Automatiserad sekvensering:PLC-hanterade pump-ned-, deponerings- och ventileringscykler minimerar driftsvariationen.
Konfiguration av vakuumsystem
Grovbearbetningspumpar:Olje-fria torra rötter och roterande skovelpumpar.
Högvakuumpump:Magnetiskt leviterad turbomolekylär pump (1600 L/s).
Mätare:Kombination Pirani, kall katod och Baratron kapacitans manometrar.
Ventiler:Pneumatiska grind- och vinkelventiler med säkerhetsspärrar.
Avdunstningsmaterial och substratkompatibilitet
Oxider:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Fluorer:MgF2, LaF3
Metaller:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Substrat:Smält kiseldioxid, BK7, kiselwafers, germanium, zinkselenid (ZnSe) och värmebeständig polyimid-.
Ansökningar
Precisionsoptik:Smalbandiga passfilter och DWDM-beläggningar som kräver stabila centrumvåglängder.
Laseroptik:Reflektorer med hög-skade-tröskel och anti-reflexbeläggningar.
Halvledare och fotonik:Dielektriska skyddsskikt, passivering och optiska vågledare.
Solenergi:Transparent ledande oxid (TCO) gränssnitt modifiering.
Anpassning
Kammarstorlek:Skalbara diametrar från 600 mm till 1200 mm.
Källlayout:Upp till tre e-strålepistoler och flera värmekällor per plattform.
In-Situ Metrology:Bredbands optisk övervakning (BOM) eller kvartskristall mikrobalans (QCM) integration.
Automatisering:Robotbaserade substratladdningsgränssnitt som är kompatibla med SEMI-standarder.
Kvalitetskontroll
Läckagedetektering:Heliummasspektrometertestning per kammare (känslighet<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Komponentkälla:Tier-1 industriella varumärken (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Fabriksgodkännande (FAT):72-timmars kontinuerlig torrkörning och verifieringsbeläggning som mäter brytningsindex och enhetlighet före leverans.
Installation & teknisk support
Dokumentation:Komplett engelskt paket inklusive elektriska scheman, P&ID-diagram och PLC-källkoder.
Fälttjänster:Nyckelfärdig installation, vakuumkalibrering och receptjustering av applikationsingenjörer.
Fjärrdiagnostik:Säker VPN-modul för felsökning av programvara och processer.
FAQ
F: Hur förändrar jonhjälp oxidens brytningsindex?
S: Energiskt jonbombardement driver ut fångade restgaser och förtätar mikrostrukturen, vilket flyttar brytningsindexet för filmer som Ta2O5 och TiO2 närmare bulkvärden.
F: Vad är det typiska underhållsintervallet för jonkällan?
S: Underhållsintervallen sträcker sig från 150 till 300 bearbetningstimmar, beroende på processgaser och driftseffekttäthet.
F: Kan detta system hantera reaktiva gasprocesser?
A: Ja. Oberoende massflödesregulatorer sprutar in reaktiva gaser (O2, N2) direkt in i jonkällan och kammarzonerna, sammankopplade med säkerhetstryckbrytare.
Populära Taggar: jonstråleassisterad indunstningsutrustning, Kinas jonstråleassisterad indunstningsutrustning, tillverkare, leverantörer, fabrik, ferroelektrisk tunn filmutrustning, industriell tunnfilmutrustning, Magnetron sputtering tunn filmutrustning, tunn filmutrustning för metalliseringsapplikationer, tunn filmutrustning för NEMS -tillverkningsapplikationer, tunn filmutrustning för smarta enhetstillverkningsapplikationer
