Produktöversikt

 

PVD Composite Thin Film Equipment är en industriell vakuumdeponeringsplattform konstruerad för att deponera tunna filmer av flera-lager, legeringar och nanokompositer. Genom att integrera magnetronförstoftning och katodbågskällor i en enda vakuumkammare, möjliggör systemet exakt kontroll över filmmikrostruktur, kvarvarande spänning och gränssnittsvidhäftning. Plattformen är byggd för kontinuerlig produktion och avancerad FoU och rymmer metalliska, keramiska och polymera substrat med skalbara kammargeometrier.

 
  • PVD-kompositvakuumavsättningsutrustning
    Denna industriella PVD-komposit-vakuumavsättningsplattform integrerar flera avsättningstekniker i en enda kammare för att avsätta enhetliga, fler-skiktiga metalliska, legerade eller dielektriska...
    visa mer
  • PVD Hybrid tunnfilmsavsättningssystem
    PVD Hybrid Thin Film Deposition System integrerar termisk förångning, elektronstråleförångning (e-stråle) och RF/DC-magnetronförstoftning i en enda vakuumarkitektur. Den här plattformen möjliggör...
    visa mer
  • PVD Multi-Process tunnfilmsutrustning
    PVD Multi-Process Thin Film Equipment är en integrerad vakuumavsättningsplattform konstruerad för att kombinera flera tekniker för tillverkning av tunn-film – inklusive RF/DC Magnetron Sputtering,...
    visa mer
  • PVD-kompositdeponeringsutrustning
    Industriell PVD-kompositbeläggningsutrustning är konstruerad för tillverkning av fler-komponent-, fler-lager och nano-komposit tunn-film. Systemet integrerar termisk förångning, e-stråleförångning...
    visa mer
  • PVD komposit tunnfilmssystem
    Industriellt -vakuumbeläggningssystem som integrerar magnetronförstoftning (RF/DC/HiPIMS) och katodisk ljusbågsförångning. Designad för kontinuerlig, fler-lager, legering och nano-komposit...
    visa mer
  • PVD-komposit tunnfilmsutrustning
    PVD Composite Thin Film Equipment är en industriell vakuumplattform designad för att syntetisera fler-skikts-, legerings- och graderade tunna filmer. Byggd på en modulär arkitektur av 304L/316L...
    visa mer
 
Tekniska specifikationer

 

Parameter

Specifikationsområde

Ultimat vakuumtryck

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Arbetstryck

0,1 Pa - 5.0 Pa

Substrattemperatur

Omgivningstemperatur till 800 grader (sluten-slinga PID-kontrollerad)

Deponeringskällor

Konfigurerbar: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulsed DC, Filtered Cathodic Arc

Tjocklekslikformighet

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Kammarmaterial

304L/316L rostfritt stål, mekaniskt slipat och elektro-polerat (Ra<= 0.4 um)

Integration av strömförsörjning

MF-generatorer (10-100 kHz), RF-generatorer (13,56 MHz), pulsad DC-förspänning

Styrsystem

Industriell PLC + IPC med automatiserad receptexekvering, förreglingsövervakning och batchdataloggning

 

Sammansatt deponeringsprocess

Systemet använder en hybrid fysisk ångavsättningsarkitektur som kombinerar magnetronförstoftning och katodbågsteknik.

Multi-Källsynergi:

Samtidig eller sekventiell drift av flera katoder möjliggör abrupta eller graderade kompositionsövergångar över filmstapeln.

 

Jonetsning för-rengöring:

RF eller DC plasmarengöringssteg tar bort inhemska oxider och ytföroreningar före avsättning för att maximera beläggningen-till-underlagets vidhäftning.

Reaktiv avsättningskontroll:

Optisk emissionsspektroskopi (OES) med sluten-slinga reglerar reaktiv gasinjektion (O2, N2, C2H2) för att upprätthålla stabil sammansättningsstökiometri och förhindra målförgiftning.

Substratförspänning:

Synkroniserade pulsade strömförsörjningar bombarderar den växande filmen med hög-energijoner, förtätar mikrostrukturen och skräddarsyr kvarvarande tryckspänning.

 

Filmmaterial

Utrustningen stöder ett brett spektrum av målmaterial för skräddarsydda funktionskrav:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Övergångsmetallnitrider och -karbider:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN för slitage och korrosionsbeständighet.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokomposit- och flerskiktssystem:

TiSiN, AlTiSiN, metall/keramiska nanolager för extrem hårdhet och termisk stabilitet vid hög-temperatur.

 
PVD Composite Thin Film System

Transparent Conductive Oxides (TCO):

ITO, AZO, IGZO för optoelektroniska och fotovoltaiska applikationer.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Rena metaller och legeringar:

Ti, Cr, Al, Cu, Rostfritt stål, NiCr för elektriska kontakt- och diffusionsbarriärskikt.

 
Ansökningar
 
 
 

Precisionsskärverktyg:

Avsättning av super-hårda beläggningar med låg-friktion (t.ex. TiAlN) på hårdmetallskär, borrar och änd-fräsar för att förlänga livslängden under höga termiska belastningar.

 
 

Fordonskomponenter:

Friktions-reduktion och slitagebeständiga-filmer på kolvringar, bränsleinsprutningsdelar och kugghjulsenheter.

 
 

Optoelektronik och skärmar:

Låg-resistivitet, hög-transmissionsledande oxidskikt för pekpaneler och solcellssubstrat.

 
 

Medicinsk utrustning:

Biokompatibla och slitstarka-beläggningar på kirurgiska instrument och ortopediska implantat.

 

 

Anpassning och systemkonfiguration

Tekniska konfigurationer är anpassade till specifika produktionsanläggningsbegränsningar och processrecept:

Kammarstorlek:

Cylindriska eller rektangulära kammaralternativ, allt från FoU-satssystem (500 mm diameter) till stor-produktionslast-låssystem (1000 mm+).

01

Urval av pumpsvit:

Matchande rotblåsare, turbomolekylära pumpar och kryogena pumpar baserat på nödvändiga pumpstopptider och gasbelastningsprofiler.

02

Substratfixtur:

Anpassade planetrotationssteg, 3-satellitrotation eller rulla-moduler designade för komplexa 3D-geometrier eller kontinuerliga banor.

03

Automatiseringsnivå:

Halv-automatiska manuella belastningskonfigurationer eller helautomatiska vakuumöverföringssystem med robotbaserad substrathantering.

04

 

Tillverkning och kvalitetskontroll
 

Läckagedetektering:

Varje vakuumkammare genomgår läckagetestning av heliummasspektrometer till ett tröskelvärde på < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Svetsinspektion:

Vakuum-sidsvetsar är TIG-svetsade, slipade och polerade, följt av -röntgen- eller färgpenetrantinspektion på begäran.

Överensstämmelse med el och säkerhet:

Kontrollpaneler byggda i enlighet med NFPA 79 eller CE/IEC-standarder, med hårdvarulås för vattenflöde, gastryck och elsäkerhet.

Factory Acceptance Testing (FAT):

Testning före-försändelse inkluderar 72-timmars kontinuerlig torrkörning-, verifiering av vakuumprestanda och testbeläggning med hjälp av kundspecificerade recept.

 

 

Installation & teknisk support

Riktlinjer för webbplatsförberedelse:Omfattande anläggningskravdokument tillhandahålls med detaljerade verktygsgränssnitt (kylvattenflöde/tryck, elektrisk belastning, tryckluft, avgas).


Idrifttagning på-platsen:Fältserviceingenjörer utför mekanisk justering, vakuumläckagekontroller, elektriska kopplingar- och initial kalibrering.


Trimning av processrecept:Samarbete på-plats med kundmetallurger och processingenjörer för att låsa in målparametrar för filmtjocklek, spänning och hårdhet.


Livscykelsupport:Fjärrdiagnosgränssnitt, lokaliserad reservdelsinventering och schemalagda förebyggande underhållsprogram.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

FAQ

 

 

F: Vilken är den typiska stopptiden för pumpen- för att nå bastrycket?

S: Genom att använda standard hög-vakuumkonfigurationer (turbomolekylära eller kryogena pumpar parade med pumpar med rotor/roterande skovelstöd) evakuerar kammaren från atmosfären till < 5,0 x 10^-4 Pa inom 25 till 40 minuter, beroende på kammarvolymen och fuktavgasningsbelastningen.

F: Kan systemet växla mellan reaktivt och icke-reaktivt sputterläge automatiskt?

A: Ja. PLC-styrmjukvaran hanterar massflödesregulatorer (MFC) och strömförsörjningsutgångar dynamiskt, vilket möjliggör automatiserad övergång mellan metallisk avsättning och reaktiv föreningsbildning inom en enda processcykel.

F: Vilka substratgeometrier kan standardplanetrotationssteget rymma?

S: Den vanliga 3-axliga planetarmaturen hanterar komplexa 3D-komponenter som skärverktyg och bilventiler. Anpassade jiggar kan konstrueras för plana underlag upp till 400 mm x 400 mm eller cylindriska rullar.

F: Hur säkerställer du enhetlig filmtjocklek över stora partier?

S: Enhetlighet uppnås genom optimerat avstånd mellan katod-till-substrat, lokaliserad magnetfältsprofilsimulering och multi-planetrotation. Verklig enhetlighet verifieras genom provtagning av vittnen under FAT.

F: Vilka är brukskraven för en standard industrienhet?

S: Kräver vanligtvis 3-fas 380V/480V (50/60Hz), kylt kylvattenförsörjning (cirka 15 till 20 grader vid 3 till 4 bar), tryckluft (6 bar) för pneumatiska ventiler och ren torr luft eller kväve för avluftning. Exakta belastningar varierar beroende på strömförsörjningskonfiguration.

Vi är väl-kända som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av pvd-komposit tunnfilmsutrustning i Kina. Om du ska köpa anpassad pvd-komposit tunnfilmsutrustning tillverkad i Kina, välkommen att få prislista från vår fabrik. För priskonsultation, kontakta oss.

tunnfilmdetekteringsutrustning, tunn filmutrustning för tillverkning av big data -enheter, Tunt filmvakuumsystem
Skicka förfrågan
Kontakta ossom du har några frågor

Du kan antingen kontakta oss via telefon, e-post eller onlineformulär nedan. Vår specialist kommer att kontakta dig inom kort.

Kontakta nu!