Produktöversikt
IAE-Serien jon-Assisted Evaporation Thin Film Equipment integrerar fysisk ångavsättning (PVD) med real-jonstrålebombning. Genom att rikta energiska joner på substratet under termisk -elektronstråleförångning överför systemet momentum till de kondenserande atomerna, vilket omstrukturerar den växande filmens mikrostruktur.
Denna kinetiska energiöverföring eliminerar kolumnära tomrum, undertrycker fuktabsorption och låser brytningsindexet mot förändringar i omgivande luftfuktighet. Plattformen är byggd för kontinuerlig drift med flera-skift i optiska och halvledarproduktionslinjer och hanterar substrat från hög-exakt laseroptik till kiselskivor.
-
Utrustning för jon-assisterad vakuumavdunstningJon-Assisted Vacuum Evaporation System integrerar hög-vakuumtermisk eller elektron-stråleförångningskällor med en Kaufman-typ eller End-Halljonkälla. Genom att bombardera den växande filmen med...visa mer
-
Jon-assisterat tunnfilmsavsättningssystemDet jon-assisterade tunnfilmsavsättningssystemet integrerar multi-elektron-fickstråle/termisk förångning med en hög-presterande jonkälla av -Hall eller Kaufman-typ. Under fysisk ångdeposition...visa mer
-
Jonstråleassisterad indunstningsutrustningIBAE-systemet kombinerar elektron-stråle eller termisk förångning med en integrerad bred-jonkälla. Samtidigt jonbombardement under filmtillväxt överför kinetisk energi till kondenserande adatomer,...visa mer
-
Jon-Utrustning för tunnfilmsavsättningIA-Serien jon-assisterad tunnfilmsavsättningsutrustning integrerar elektron-termisk förångning med en Kaufman- eller End-Hall-jonkälla. Energiskt jonbombardement (argon/syreblandning) under...visa mer
-
Jon-assisterad avdunstning tunnfilmssystemIon-tunnfilmssystemet (IAE) integrerar fysisk ångavsättning (PVD) med energiskt bombardemang av jonstrålen. Under termisk -elektronstråleförångning riktar en extra Kaufman- eller End-Hall-jonkälla...visa mer
-
Jon-Utrustning för tunnfilmsavdunstningIndustriell-jon-assisterad förångning (IAE)-system som integrerar multi-elektron-fickförångning med en energisk jonstrålekälla (End-Hall- eller Kaufman-konfiguration). Real-jonbombardement överför...visa mer
Tekniska specifikationer
|
Parameter |
Specifikation |
|
Ultimat bastryck |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
|
Förångningskällor |
Fler-fick E-strålepistol (4 × 15cc till 40cc) och resistiva värmekällor |
|
Typ jonkälla |
Gridless End-Hall/Kaufman-jonkälla (strålespänning: 50 – 1500 V, jonström: 0,1 – 3 A) |
|
Filmtjocklekskontroll |
Kvartskristallmikrobalans (QCM) + Optiskt övervakningssystem (OMS), precision ± 0,1 nm |
|
Substratfixtur |
Planetarisk rotationsfixtur, kupolradie anpassad till substratets geometri |
|
Underlagsuppvärmning |
Strålningsvärmare, upp till 350 grader med ± 2 graders PID-likformighet |
|
Styrarkitektur |
PLC + Industriell PC, automatiserad receptexekvering, SECS/GEM-kompatibel dataloggning |
Jon-assisterad deponeringsprocess
Ånggenerering:
Materialet förångas från e-stråledegeln eller termisk båt med kontrollerade avsättningshastigheter (0,1 – 2,0 nm/s).
01
Momentumöverföring:
Energetiska joner (Ar⁺, O⁺) bombarderar substratytan samtidigt med det ankommande ångflödet från E-strålen eller värmekällan.
02
Modifiering av mikrostruktur:
Jonpåverkan förbättrar rörligheten på atomytorna, förhindrar tillväxt av pelarkorn och uppnår nästan-bulkdensitet (packdensitet > 99 %).
03
Stökiometrikorrigering:
Reaktiv jonassistans (O₂) säkerställer fullständig oxidation av sub-oxider i metalloxidfilmer (t.ex. Ta₂O5, Nb₂O₅, SiO₂), vilket eliminerar absorptionsband i UV-NIR-spektrumet.
04
Filmmaterial
Oxider:
SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, HfO2 (högt brytningsindexstabilitet för optiska filter).
Fluorer:
MgF₂, LaF3 (lager med lågt brytningsindex för bredbandiga AR-beläggningar).
Metaller:
Al, Ag, Au, Ti (vidhäftningsskikt och metalliska reflektorer).
Ansökningar
Laser och precisionsoptik:
Bandpassfilter, dikroiska speglar och laserskyddande beläggningar som kräver hög laser-inducerad skadetröskel (LIDT) och noll spektralförskjutning under termisk stress.
LiDAR täckglas:
Hållbara anti-reflekterande (AR) och anti-smutsiga tunna filmer som är resistenta mot hård väderlek utomhus.


Halvledarförpackning:
Fukt-inkapslingsskikt och metallkontaktdynor avsatta vid låga substrattemperaturer.
Biomedicinska sensorer:
Biokompatibla optiska interferensbeläggningar för diagnostiska mikrofluidchip.
Anpassning
Kammare och interna layouter är konstruerade för specifika tillverkningsfotavtryck och processkrav:
Kammarens mått:
Skalbar från R=600 mm FoU-enheter till R=1200 mm hög- produktionssystem med kapacitet.
Pumppaket:
Konfigurerbar med Maglev turbomolekylära pumpar, kryopumpar och Roots fläktstödlinjer baserat på gasbelastningskrav.
Källintegrering:
Dubbla-jonkällkonfigurationer eller sam-deponeringsinställningar för komplexa legerings- och flerskiktsgradientfilmer.
Automatiseringsnivå:
Integration med automatiserade renrumssubstratöverföringssystem (EFEM / Vacuum cluster tools).
Kvalitetskontroll
Läckagedetektering:
Varje vakuumkammare är heliumläckage-testad med en masspektrometer (läckagehastighet < 1,0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s).
Komponentspårbarhet:
Vakuumventiler, massflödesregulatorer (MFC) och strömförsörjning från kvalificerade Tier-1 industrimärken (MKS, Inficon, VAT).
Factory Acceptance Testing (FAT):
Kör-tester som verifierar bastryck, pumpkurva, källstabilitet och 24-timmars kontinuerlig tom kammare före leverans.
Metrologisk validering:
Provkörningar verifierade via spektrofotometer (transmittans/reflektans) och atomkraftsmikroskopi (ytråhet Ra < 0,5 nm).
Installation & teknisk support
Webbplatsförberedande guide:
Omfattande verktygskrav tillhandahålls före leverans (kylvattenflöde/-tryck, renrumstryckluft, kraftfördelning, avluftning).
Nyckelfärdig driftsättning:
Fältserviceingenjörer sköter mekanisk montering, vakuumbakning-, jonstrålekalibrering och inledande processrecept-av på-platsen.
Operatörsutbildning:
Strukturerad praktisk utbildning-som täcker rutinunderhåll, vakuumsäkerhet, programvarudrift och felsökning.
Livscykelsupport:
Fjärrdiagnostik för snabb felsökning av programvara; regionalt lager av kritiska slitageartiklar (filament, deglar, sköldar) skickas inom 48 timmar.
FAQ
Vi är väl-kända som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av tunnfilmsutrustning för jon-assisterad avdunstning i Kina. Om du ska köpa anpassad tunnfilmsutrustning med jon-tillverkad i Kina, välkommen att få prislista från vår fabrik. För priskonsultation, kontakta oss.
tunnfilmdetekteringsutrustning, tunn filmutrustning för tillverkning av big data -enheter, Tunt filmvakuumsystem