Kina Electron Beam Evaporation Thin Film Equipment Manufacturers Suppliers Factory

Produktöversikt

Denna tunnfilmsutrustning för elektronstråleförångning är konstruerad för hög-precisionsfysikalisk ångavsättning (PVD). Genom att använda en fokuserad hög-elektronstråle för att bombardera källmaterial, uppnår systemet höga förångningshastigheter för hög-smältpunkt-metaller, oxider och dielektriska material.

Systemet är byggt på en modulär vakuumarkitektur och rymmer elektronkanoner med flera-fickor, anpassningsbara substratfixturer och avancerad in-situ-övervakning. Den betjänar FoU-laboratorier och produktionslinjer med hög-genomströmning som kräver strikt kontroll över filmstökiometri, vidhäftning och optisk prestanda.

Elektronstråleförångningsutrustning med hög vakuum
EBE-seriens högvakuumelektronstråleförångningssystem avsätter tunna filmer med hög-renhet för optiska, halvledar- och metallurgiska tillämpningar. Genom att rikta en magnetiskt fokuserad...
visa mer
Elektronstråle tunnfilmsavsättningssystem
Electron Beam Thin Film Deposition System levererar riktad PVD-bearbetning med hög -renhet för avancerad forskning och industriell produktion. Genom att använda en fokuserad, magnetiskt styrd...
visa mer
Elektronstrålevakuumförångningsutrustning
Detta elektronstrålevakuumförångningssystem utför fysisk ångavsättning (PVD) av hög-smältpunkt-metaller, oxider och dielektrika. Genom att rikta en fokuserad elektronstråle in i en vatten-kyld...
visa mer
Elektronstråle tunnfilmsavsättningsutrustning
Detta industriella elektronstråleavsättningssystem använder magnetiskt fokuserade elektronkanoner (3 kW till 15 kW) för att rikta energiflöden med hög-densitet in i vattenkylda kopparhärdar.-...
visa mer
Elektronstråleavdunstning tunnfilmssystem
EBE-seriens elektronstråleförångningssystem är konstruerat för fysisk ångavsättning (PVD) av hög-smältpunkt-metaller, dielektriska och optiska material. Genom att använda en magnetiskt avböjd,...
visa mer
Elektronstråleavdunstning tunnfilmsutrustning
EBE-V600-serien är en industriell-fysisk ångavsättningsplattform (PVD) designad för exakt tunn-filmbeläggning av optiska komponenter, halvledarenheter och avancerade material. Genom att rikta en...
visa mer

Tekniska specifikationer

Parameter	Specifikationsområde	Anmärkningar / Standardkonfiguration
Ultimat bastryck	< 5.0 × 10^-6 Pa	Uppnås via kryogena eller turbo-molekylära pumpgrupper
Kammarmått	Anpassad (500 mm till 1200 mm innerdiameter)	304L / 316L rostfritt stål, elektro-polerat
E-Gevärsstyrka	6 kW till 15 kW (multi-svepgeneratorer)	Programmerbar strålavböjning och multi-degelindexering
Depositionshastighet	0,1 nm/s till 10 nm/s	Real-tidsstyrning med sluten-slinga via kvartskristallmonitor
Enhetlighet i filmtjocklek	< ±1% to ±2% across standard substrates	Planet- eller kupolunderlagsfixtur med variabel hastighetsrotation
Substrattemperatur	Omgivningstemperatur till 800 grader	Integrerad strålningsvärme med PID termisk återkoppling

Viktiga utrustningsegenskaper

Elektronpistol med hög-stabilitet:

Har magnetisk avböjning och multi-punktsfokusering för att förhindra lokal överhettning av källmaterial och eliminera spott under reaktiv avdunstning.

Modulär degeldesign:

Utrustad med 4 till 6- indexerbara härdar i fickor, vilket möjliggör avsättningar i flera lager utan att bryta vakuum.

Avancerat vakuumförregling:

PLC-kontrollerade pneumatiska ventiler, automatisk grovbearbetning/hög-vakuumsekvensering och förreglingar skyddar mot kylvattenavbrott och strömavvikelser.

Låg-kontaminationskammare:

Invändig skärmning använder elektro-polerat rostfritt stål med avtagbara foder för snabb partikelreduktion och underhåll.

Filmmaterial och substrat

Kompatibla förångningsmaterial

Metaller: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrika och oxider: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

Substrattyper

Kiselwafers (2 tum till 12 tum)
Optiskt glas, smält kiseldioxid och kvartssubstrat
Flexibla polymerfilmer (polyimid, PET via rulle-till-moduler)
Keramiska substrat (Al2O3, AlN)

Ansökningar

High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Optiska beläggningar:

Anti-reflekterande (AR) beläggningar, smala-bandsfilter och hög-reflektionsspeglar för laser- och fotoniksystem.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Halvledarenheter:

Ohmisk kontaktbildning, gatemetallisering och lyft-off-bearbetning för mikroelektronik.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektronik:

Transparent ledande oxid (TCO) lager och tunna filmer för OLED-skärmar och solceller.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

Avancerad FoU:

Undersökande tunna-filmmagnetiska lager, supraledande filmer och fler-heterostrukturer.

Anpassning och systemkonfiguration

Varje tunn-filmsystem är konfigurerat för att matcha specifika processrecept och anläggningslayouter. Tillgängliga tekniska anpassningar inkluderar:

Val av pumpstack:

Turbo-molekylära pumpar (TMP), kryopumpar eller olje-diffusionskonfigurationer skräddarsydda för grundkraven på vakuum och genomströmning.

Ladda-Låsintegration:

Manuellt laddnings-lås eller automatiserade fler-kammarklustersystem för att bibehålla ultra-hög vakuumintegritet och öka wafergenomströmningen.

In-Situ Metrology:

Integrationsportar för spektroskopiska ellipsometrar, optiska monitorer eller restgasanalysatorer (RGA).

Styrprogramvara:

Proprietärt PLC/HMI-gränssnitt med receptlagring, dataloggning och SECS/GEM-kommunikationsprotokoll för smart fabriksintegration.

Tillverkning och kvalitetskontroll

01.

Fartygstillverkning:

Alla vakuumkammare genomgår läckagetestning av heliummasspektrometer med en avvisningströskel på < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

Svetsintegritet:

TIG-svetsning utförs under inertgasskydd, följt av passivering av inre ytor och mekanisk polering för att minska avgasning.

03.

Factory Acceptance Testing (FAT):

72-timmars kontinuerlig torr-körningstest som mäter pumpkurvor, e-gun-svepprecision, interlock-svarstider och termisk stabilitet före låda.

04.

Efterlevnad och standarder:

Tillverkad under ett ISO 9001-certifierat kvalitetsledningssystem, med system konstruerade för att uppfylla CE-direktiv och relevanta SEMI (S2/S8) säkerhets- och ergonomiska riktlinjer.

Installation & teknisk support

Idrifttagning på-platsen:

Fabrikscertifierade-serviceingenjörer hanterar mekanisk positionering, nätanslutningar (ström, kylvatten, tryckluft) och initial vakuumbakning-.

Processtuning:

Samarbetande testkörningar med kundspecificerade substrat- för att verifiera avsättningshastigheter, enhetlighet och filmvidhäftning.

Livscykelunderhåll:

Garanterad tillgång till reservdelar för komponenter med högt-slitage (filament, deglar, sköldar) och fjärrdiagnostik via krypterade industriella VPN-anslutningar.

FAQ

F: Vad är den typiska ledtiden för en standardsystemkonfiguration?

S: Standardkonfigurationer skickas inom 16 till 20 veckor från ritningens godkännande. Mycket anpassade system som kräver speciella belastnings-låskonfigurationer eller icke-standard kammargeometri sträcker sig från 24 till 30 veckor.

F: Hur förhindrar du korskontamination av material- mellan olika förångare?

S: Systemet använder individuella vatten-kylda härdfickor åtskilda av termiska och fysiska barriärer, i kombination med optimerade elektronstrålesvepningsmönster som eliminerar materialstänk.

F: Vilka är anläggningskraven för ett 10 kW-system?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 l/min), och torr tryckluft (0,6–0,8 MPa) för pneumatiska ventiler.

Vi är välkända-som en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av tunnfilmsutrustning för elektronstråleavdunstning i Kina. Om du ska köpa anpassad tunnfilmsutrustning för elektronstråleavdunstning tillverkad i Kina, välkommen att få prislista från vår fabrik. För priskonsultation, kontakta oss.