Arc Evaporation Thin Film System

Arc Evaporation Thin Film System

Detaljer
Industrial Cathodic Arc Evaporation Thin Film System är konstruerat för hög-avsättning av täta, starkt vidhäftande beläggningar av metall, legeringar och keramiska sammansättningar. Systemet arbetar via en låg-spänning, hög-bågarladdning på fasta katodmål, och förångar materialet direkt till ett starkt joniserat plasmatillstånd (40 % - 80% metalljonförhållande). Detta driver in energiska joner i substratets gränssnitt, vilket ger överlägsen beläggningsvidhäftning jämfört med standard termisk förångning eller konventionella förstoftningsmetoder.
Produktklassificering
Arc Evaporation tunnfilmsutrustning
 
Skicka förfrågan
Beskrivning
Tekniska parametrar

Industrial Cathodic Arc Evaporation Thin Film System är konstruerat för hög-avsättning av täta, starkt vidhäftande beläggningar av metall, legeringar och keramiska sammansättningar. Systemet arbetar via en låg-spänning, hög-bågarladdning på fasta katodmål, och förångar materialet direkt till ett starkt joniserat plasmatillstånd (40 % - 80% metalljonförhållande). Detta driver in energiska joner i substratets gränssnitt, vilket ger överlägsen beläggningsvidhäftning jämfört med standard termisk förångning eller konventionella förstoftningsmetoder.


Systemet är byggt för produktionsmiljöer och avancerade materialforskningscenter och avsätter hårda,-nötningsbeständiga tribologiska lager-som TiN, TiAlN, CrN och AlCrN-på skärverktyg, formar och precisionsmekaniska komponenter. Den modulära vakuumkammaren rymmer skalbara fler-katodkonfigurationer och automatiserad 3-planetrotation för att säkerställa repeterbarhet från batch-till-batch.

 

Tekniska specifikationer

 

Teknisk parameter

Specifikationsområde / värde

Ultimat vakuumtryck

<= 5.0 x 10^-4 Pa (achieved via turbomolecular and rotary/dry backing pump combination)

Kammarmått

Anpassad innerdiameter (Standard industriella modeller: dia. 600 mm till dia. 1200 mm)

Kammarmaterial

Dubbel-väggig SUS304 rostfritt stål med inre spiralformade vatten-kylkanaler

Arc Strömförsörjning

DC-båggeneratorer: 10A - 200A justerbar; Alternativ för pulsbåge tillgängliga

Substrat Bias Power

-100V - -1000V justerbar pulsad bias strömförsörjning (10kHz - 100kHz)

Katodkällor

2 - 6 utbytbara magnetiska-styrkatodstationer (dia. 85 mm eller dia. 100 mm)

Substratrotation

3-axlig planetrotationsdrivning med variabel hastighetskontroll (0 - 10 rpm)

Total ansluten effekt

45kVA - 120kVA (beroende på kammarvolym och källantal)

Kylvattenbehov

Flödeshastighet: 15 - 40 m^3/h; Tryck: 0.2 - 0.3 MPa; Temperatur: 18 - 25 grader C

 

Nyckelfunktioner


Magnetisk-Styrkatodteknik:Magnetfält med sluten-slinga sveper katodfläcken över målytan, vilket höjer målutnyttjandet över 55 % och undertrycker lokaliserad målkratring.


Plasm med hög joniseringshastighet Genererar metalljonförhållanden upp till 80 %, vilket ger hög kinetisk energi för tät filmtillväxt och djup metallurgisk diffusion vid substratets gränssnitt.


Programmerbar avsättning i flera-lager:Industriell PLC kombinerat med en HMI-styrarkitektur utför automatiserad sekvensering av reaktiva gaser (N2, O2, C2H2) för funktionell gradient- och nanoskiktad beläggningsarkitektur.


In-Situ plasmaetsning:Integrerar metalljonbombardement och obalanserade magnetronrengöringssteg före avsättning för att avlägsna inhemska oxider och ytföroreningar.

 

Konfiguration av vakuumsystem


Vakuumundersystemet är konstruerat för snabba ned--pumpningscykler och stabilt driftstryck under kontinuerlig reaktiv gasinmatning:


Grovbearbetnings- och rötterstadiet:Direkt-driven roterande lamell- eller torrskruvpump tillsammans med en Roots-fläkt, som evakuerar kammaren från atmosfärstryck till 10 Pa inom 5 minuter.


Högvakuumsteg:Magnetisk levitationsturbomolekylär pump som levererar hög volymetrisk pumphastighet för vattenånga och restgaser, säkrar bastryckmål under 5,0 x 10^-4 Pa.


Ventiler och mätare:Pneumatiska slussventiler och elektro-pneumatiska vinkelventiler integrerade med komplett-kombinationsmätare för Pirani/Penning för automatiska säkerhetsspärrar.


Tryckreglering:Återkoppling av kapacitansmanometer med sluten-slinga ansluten till hög-massflödeskontroller (MFC) för att stabilisera reaktiv gaspartialtryck under reaktiv deponering.

 

Avdunstningsmaterial och substratkompatibilitet


Målmaterial
Rena metaller:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Nb.


Legeringsmål:TiAl (50/50, 33/67), TiSi, CrAl.


Kol:Grafitmål för diamant-liknande kol (DLC) hybridavsättning.


Substratkompatibilitet
Hårdmetaller/hårdmetaller:WC-Skär, pinnfräsar och formverktyg.


Höghastighetsstål (HSS):Kranar, spiralborrar och borrar.


Engineering Steels:Rostfritt stål, titanlegeringar och hög-nickel--baserade superlegeringar.


Strukturell keramik:Komponenter av aluminiumoxid och kiselnitrid som kräver tribologisk modifiering.

 

Ansökningar


Skär- och bearbetningsverktyg:Avsättning av TiAlN- och AlCrN-beläggningar på hårdmetallskär för att höja oxidationsbeständigheten upp till 900 grader C och förlänga verktygets livslängd under torrskärning med hög-hastighet.


Fordonskomponenter:Hård beläggning av kolvringar, ventillyftare och bränsleinsprutningsstift för att minska gränsfriktionskoefficienterna under 0,1 och förhindra repor.


Formar och formar:Applicering av CrN- och TiCN-filmer på plastsprutformar och metallstansar för att förhindra nötning av lim och att material skaver.


Flyghårdvara:Skyddande erosionsbeständiga-beläggningar på precisionsfästen och kompressorkomponenter som arbetar i korrosiva miljöer.

 

Anpassningsalternativ


Kammargeometri:Vertikal lastningsdörr i-stil eller horisontell front-design anpassad för butiks-golvlayouter.


Hybridkällintegrering:Dubbla-teknikkonfigurationer som kombinerar katodbågsförångare med obalanserad magnetronförstoftningskatoder (UBMS) eller linjära jonkanoner.


Automatiseringsnivå:Fabriksintegreringsalternativ inklusive automatiserade robotlastarmar eller separationsvägg för renrum.


Kraftelektronik:Anpassade pulserande förspänningsgeneratorer optimerade för isolerande substrat eller temperaturkänsliga basmaterial-.

 

Kvalitetskontroll och fabrikstestning


Läckagedetektering:Heliummasspektrometer-läckagetestning utförd på alla vakuumkammare och svetsfogar, vilket bibehåller totala läckagehastigheter under 1,0 x 10^-9 Pa*m^3/s.


Elsäkerhetsrevision:Isolationsresistans och jordningskontinuitetstester i enlighet med CE- och elektriska säkerhetsstandarder.


Funktionell torrkörning:72-timmars kontinuerligt automatiserat torrcykeltest av mekaniska rotationsdrivningar, ventilsekvensering och kylvattenflödesförreglingar.


Processverifiering (FAT):Valfri avsättning av referens-TiN-beläggningar på kund-levererade testkuponger för att verifiera filmtjocklekens likformighet, nano-hårdhet och rephäftningsstyrka före packning.

 

Installation & teknisk support


Guide för att förbereda webbplatsen:Detaljerad anläggningsteknisk dokumentation som täcker gränser för golvbelastning, avgaskanaler, specifikationer för kylt vatten och elektriska droppar tillhandahålls 4 veckor före leverans.


Idrifttagning på-platsen:Fältserviceingenjörer övervakar mekanisk positionering, verktygsanslutningar, vakuumförsegling och elektrisk integration.


Processträning:Handlig-förarutbildning som täcker kammarunderhåll, målbytesprotokoll, vakuumfelsökning och recepthantering.


Fjärrdiagnostik:Säker industriell VPN-gateway integrerad i styrskåpet för fjärrprogramvaruuppdateringar, parameterloggningsanalys och feldiagnos.

 

FAQ

 

F: Hur styr systemet generering av makropartiklar (droppar) som är inneboende i katodbågsavdunstning?

S: Systemet innehåller styrande magnetiska fält för att snabbt svepa katodfläcken över målytan, vilket minskar bildningen av makropartiklar. För applikationer som kräver ultra-släta ytor (Ra < 0,05 um), kan makropartikelfilterkanaler (filtrerad katodbåge) eller hybridmagnetronförstoftningskonfigurationer integreras.

F: Vilken är den typiska målanvändningsgraden och hur ersätts mål?

S: Med hjälp av magnetisk-styrteknik varierar målanvändningen mellan 50 % och 60 %. Katoder är utformade med snabb-klämmekanismer, vilket gör att en utbildad operatör kan slutföra målbyte och katodrengöring inom 30 minuter per station.

F: Kan systemet köra automatiska flerskikts- eller gradientbeläggningsprocesser-?

A: Yes. The industrial PLC and HMI system store up to 100 recipe profiles. It automatically regulates gas mass flow controllers, arc current ramps, and bias voltage pulsing to deposit complex architectural layers (e.g., bonding layer -> gradient layer ->funktionell nano-flerlager) utan operatörsinblandning.

F: Vilka är verktygskraven för ett standarddia. 900 mm-system?

S: En standardenhet med diameter. 900 mm kräver en 3--fas 380V/480V (50/60Hz) strömförsörjning med en toppbelastning på cirka 75kVA, en sluten kylvattenförsörjning (25 m^3/h vid 0,25 MPa) och en ren, torr tryckluftsventil (0,6 MPa) för pneumatisk tryckluftsförsörjning.

 

Populära Taggar: bågavdunstning tunnfilmssystem, Kina bågavdunstning tunnfilmssystem tillverkare, leverantörer, fabrik, ferroelektrisk tunn filmutrustning, industriell tunnfilmutrustning, Magnetron sputtering tunn filmutrustning, tunn filmutrustning för metalliseringsapplikationer, tunn filmutrustning för NEMS -tillverkningsapplikationer, tunn filmutrustning för smarta enhetstillverkningsapplikationer

Skicka förfrågan
Kontakta ossom du har några frågor

Du kan antingen kontakta oss via telefon, e-post eller onlineformulär nedan. Vår specialist kommer att kontakta dig inom kort.

Kontakta nu!