Industrial Vacuum Arc Thin Film System använder katodisk bågeavdunstning för att avsätta täta, mycket vidhäftande metalliska, legerade och keramiska tunna filmer. En hög-ström, låg-båge förångar fasta katodmaterial till en starkt joniserad plasmaström (40 % - 80% joniseringshastighet), vilket säkerställer exceptionell bindningsstyrka för film-till- och höga avsättningshastigheter.
Plattformen är konstruerad för industriell produktion och avancerad materialforskning och integrerar multi-katodkonfigurationer, precisionshantering av reaktiv gas och automatiserad processkontroll för industriella beläggningar som TiN, TiAlN, CrN och DLC.
Tekniska specifikationer
|
Parameter |
Specifikation |
|
Kammarmått |
Phi 600 mm x 600 mm (kan anpassas upp till Phi 1500 mm) |
|
Kammarstruktur |
304 rostfritt stål, dubbel-vägg vatten-kylt, invändig elektropolering Ra<= 0.4 um |
|
Bastryck |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant) |
|
Arbetstryck |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Pumppaket |
Roterande skovel + Roots fläkt + hög-diffusions-/turbomolekylär pump |
|
Bågströmförsörjning |
DC/Pulsade DC-generatorer (10 A - 200 A, rippel<= 1%) |
|
Substratbias |
Pulserad DC Bias: 0 ~ -1000 V justerbar med bågundertryckning |
|
Katodkällor |
2 ~ 6 magnetiska-filtrerade eller styrbågskällor (Phi 85 / Phi 100 mm) |
|
Substratfixtur |
Planetrotation (1 ~ 10 RPM) med uppvärmning upp till 600 C |
|
Styrarkitektur |
PLC + Industrial Touch Screen PC (Receptautomation, CFR 21 Part 11 redo alternativ) |
Nyckelfunktioner
Hög plasmajonisering:Katodisk bågjonisering (40 % - 80%) främjar tät filmkärnbildning, vilket eliminerar kolumnära mikrostrukturdefekter.
Förbättrad vidhäftningsstyrka:In-situ hög-jonrengöring uppnår kritiska repbelastningar (Lc) som överstiger 40 N på verktygsstål (ASTM C1624 verifierad).
Toroidal magnetisk filtrering (tillval):Avböjer plasmabanor för att fånga och eliminera makro-droppar, vilket ger defekta-fria släta nano-beläggningar.
Sluten-slingreaktiv kontroll:Massflödesregulatorer (MFC) reglerar N2, O2, C2H2 och Ar exakt för stökiometrisk sammansättningsavsättning.
Snabbt underhåll:Snabb-katodenhet tillåter målbyte inom 30 minuter.
Konfiguration av vakuumsystem
Grovbearbetnings- och rötterstadiet:Direkt-driven roterande lamell och mekanisk boosterpump för snabb neddragning till 10 Pa.
Högvakuumsteg:Oljediffusionspump med kylfälla för flytande kväve eller magnetiskt leviterad turbomolekylär pump (1600 L/s) som når < 5 x 10^-4 Pa.
Mätare och förreglingar:Dubbla Pirani- och kallkatodjoniseringsmätare parade med automatiserade pneumatiska slussventiler och PLC-förreglingar.
Avdunstningsmaterial och substratkompatibilitet
Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
Metaller:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, Au
Legeringar/föreningar:TiAl, TiSi, CrAl, WC, Grafit (C)
Substratmaterial:
Verktygsstål:SKH51, M2, D2, hårdmetallskär
Legeringar:304/316L Rostfritt stål, Inconel, Ti-6Al-4V
Keramik/glas:Aluminiumoxid, kvarts (ytaktivering krävs)
Ansökningar
Skär- och formverktyg:TiN-, TiAlN- och AlCrN-beläggningar på borrar, pinnfräsar och pressformar (hårdhet: 2500 - 3200 HV).
Fordonskomponenter:Låg-friktion, slitagebeständiga-beläggningar på kolvringar och bränsleinsprutningsstift.
Dekorativ hårdvara:Funktionell metallfinish (guld, roséguld, gunmetal svart) för konsumenthårdvara.
Biomedicinska implantat:Biokompatibla hårda beläggningar på kirurgiska och dentala apparater (ISO 10993-kompatibla profiler).
Anpassningsalternativ
Kammarskala:Förstorade rektangulära eller cylindriska kammare för stora-volymsatser.
Hybridkonfigurationer:Dubbel-teknikintegration som parar katodiska ljusbågskällor med obalanserad magnetronförstoftning (UBMS).
Bias Modes:RF-biasintegration för isolerande eller halvledarsubstrat.
Dataintegration:OPC UA / Modbus TCP-protokoll för MES-anslutning.
Kvalitetskontroll och testning
Utfört enligt ISO 9001 kvalitetsledningsstandarder:
Heliumläckagedetektion:Masspektrometertestning på alla svetsar (Systemets läckagehastighet<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).
Elsäkerhet:Isolationsresistans och jordningskontinuitet granskas enligt CE / IEC 60204-1.
Funktionell validering:72 timmars kontinuerlig mekanisk och elektrisk torrkörning.
Factory Acceptance Testing (FAT):Provavsättning som verifierar tjocklekslikformighet (+/- 5%) och vidhäftningsmått på kundtestkuponger.
Installation & teknisk support
Förhandskontroll av anläggningen{{0}:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h), effektkapacitet och avgasventilation.
Idrifttagning på-platsen:Övervakad mekanisk placering, verktygsuppkoppling och vakuumkvalificering av fältingenjörer.
Operatörsutbildning:5-dagars praktiskt program som täcker rutindrift, underhåll, målbyte och PLC-programmering.
Livscykeltjänst:Säker VPN-fjärrdiagnostik och 48-timmars leverans av kritiska reservdelar.
Vanliga frågor
F: Hur påverkar magnetisk filtrering avsättningshastigheten?
S: Medan magnetiska filter helt eliminerar makro-droppar för optiska/elektroniska precisionsytor, minskar plasmastyrbanan den effektiva avsättningshastigheten med cirka 20 % - 30% jämfört med direkta, icke-filtrerade styrbågekonfigurationer.
F: Vilket är det typiska ersättningsintervallet?
S: Ett standard Phi 100 mm titanmål som körs vid 100 A ger 60 - 100 produktionssatser, beroende på filmtjocklek och arbetscykel.
F: Är icke-ledande substrat kompatibla med det här systemet?
S: Ja, förutsatt att en pulsad DC- eller RF-biaskonfiguration är specificerad för att förhindra ackumulering av ytladdning och ljusbåge under jonbombardement.
F: Vilka är de exakta parametrarna för anläggningsverktyget för standardenheten?
S: Strömförsörjning: 3-fas, 380 V +/- 10%, 50/60 Hz (~45 kW totalt).
Cooling Water: >= 5 m^3/h vid 0.2 - 0.3 MPa (15 C - 25 C).
Tryckluft: 0.5 - 0.7 MPa för pneumatisk aktivering.
Populära Taggar: vakuumbåge tunnfilmssystem, Kina vakuumbåge tunnfilmssystem tillverkare, leverantörer, fabrik, tunn filmproduktionslinje
