Industriell-jon-assisterad förångning (IAE)-system som integrerar multi-elektron-fickförångning med en energisk jonstrålekälla (End-Hall- eller Kaufman-konfiguration). Real-jonbombardement överför kinetisk fart till kondenserande adatomer, undertrycker kolumnär korntillväxt och driver tunn-filmpackningsdensitet mot bulkmaterialvärden.
Konfigurerad för batchbearbetning på planetrotationsfixturer under dubbel-PLC-automatisering. Kärntillämpningar inkluderar hög-laser-skada-tröskel (LIDT) optisk interferensbeläggning, täta dielektriska filterstaplar och hållbara skyddande ytskikt.
Tekniska specifikationer & processkapacitet
|
Parameter |
Specifikation & processkapacitet |
|
Ultimat bastryck |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (clean, dry, empty chamber) |
|
Pumpa-nedtid |
< 15 min from atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Kammarkonstruktion |
304L / 316L rostfritt stål; invändig elektropolering (Ra<= 0.4 um) |
|
Elektronstrålekälla |
6 kW / 10 kW multi-sveppistol (4 till 6 deglar) |
|
Typ jonkälla |
Slut-Hall eller Kaufman bred-stråle; Energi: 50 - 300 eV; Ström: 0 - 1000 mA |
|
Substrattemperatur |
Omgivningstemperatur till 300 grader C (+/- 2 grader C PID sluten-slinga enhetlighetskontroll) |
|
Tjocklekslikformighet |
<= +/- 1.0% across a 400 mm deposition zone (with planetary rotation) |
|
Inbyggd stresskontroll |
<= +/- 50 MPa (Compressive/Tensile tunable via ion energy adjustment) |
|
Repeterbarhet av brytningsindex |
Delta n<= +/- 0.001 verified over 50 consecutive production runs |
|
Systemtillgänglighet (upptid) |
>= 95% operativ tillgänglighet under kontinuerlig produktion i flera-skift |
|
Styrarkitektur |
Dubbel-PLC industrikontroller med hårdvarusäkerhetsspärrar och recepthantering |
Nyckelfunktioner
Energiskt jonbombardement:Realtidsöverföring av momentum eliminerar mikrohålrum, vilket stabiliserar brytningsindex mot fukt-inducerade spektralförskjutningar.
Reaktiv gasblödning:Kontrollerad partialtrycksinjektion av O2 eller N2 kompenserar för syrebrist under oxid/nitridavsättning och tar bort sub-oxidabsorptionsband.
Modulärt källdäck:Kassett-utbyte av jonkälla och utbytbara E-strålefickor minskar kammarventilationen-till-vakuumåterställningstiden till under 2 timmar.
Vakuumintegritet:Metall-tätade och Viton-förseglade ISO/CF-flänsar tillsammans med pneumatiska slussventiler förhindrar kors-kontamination över batcher.
Konfiguration av vakuumsystem
Grovbearbetningspaket:Rötfläkt med stöd av roterande skovel eller oljefria-hermetiska mekaniska rullpumpar.
Hög-vakuumpump:Cryogenic pump (cryopump) or magnetically levitated turbomolecular pump (air throughput >= 2200 L/s).
Tryckmätning:Kombinerade Pirani- och heta-katodjoniseringsmätare för kontinuerlig loggning från atmosfär till högvakuum.
Processtrycksreglering:Kapacitansmanometer med sluten-slinga som driver en automatisk fjärilsgasventil under gasinsprutning.
Avdunstningsmaterial och substratkompatibilitet
Förångningsmaterial:
Oxider:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, HfO2
Fluorer:MgF2, LaF3
Metaller:Au, Ag, Al, Cr, Ti
Substratmaterial:
Optiskt glas (BK7, Fused Silica, Quartz)
Halvledarskivor (kisel, galliumarsenid)
Kristaller (LiNbO3, Sapphire, YAG)
Fixturgeometri:Anpassade planetrotationsburar, kupolfixturer och platt-platthållare konstruerade för specifika batchvolymer.
Tillämpningar och empiriska prestationsbevis
Laserinterferensfilter:Smalbands- och kantfilter som kräver utsläckningsförhållanden med blockeringsdjup > OD6 vid 1064 nm.
Anti-reflekterande (AR) beläggningar:Fler-bredbandsbeläggningar för AR-beläggningar för hög-laserfönster och kameraoptik.
Frontspeglar:Låg-metallreflektorer skyddade av hårda dielektriska överrockar för flyg- och försvarsinstrumentering.
Dielektriska halvledarskikt:Passiverande och isolerande dielektrisk filmavsättning på temperatur-känsliga substrat.
Anpassning
Kammarstorlek:Invändiga diametrar skalade från 700 mm till 1300 mm.
Källintegrering:Dubbla E-stråleuppsättningar, termiska motståndskällor eller sam-depositionskonfigurationer.
Automatiseringsnivå:Halv-automatisk manuell belastning eller helt integrerad robotbaserad substrathantering med belastnings-lås.
Efterlevnad:CE, UL/CSA elpaneler och SEMI S2/S8 säkerhetsöverensstämmelsepaket.
Kvalitetskontroll och fabriksverifiering
Läckagedetektering:Masspektrometer heliumläckagetestning av alla kammare och tätningar till < 1 x 10^-10 Pa*m^3/s.
Dimensionell inspektion:CMM-verifiering av interna monteringsflänsar och optisk profilometri som bekräftar kammarväggens ojämnhet (Ra<= 0.4 um).
Bränn-I testning:72-timmars kontinuerligt torrkörningstest- av vakuumpumpar, högspänningsaggregat och PLC-förreglingsslingor.
Process Acceptance Testing (FAT):Referensbeläggningskörning som verifierar avsättningshastighetsstabilitet och brytningsindexmål mot i förväg-överenskomna kriterier.
Installation & teknisk support
Före-vägledning för installation:Layoutritningar som täcker kylt vatten, frånluftsventilation, elektriska belastningar och golvets viktkapacitet.
Idrifttagning på-platsen:Fältteknisk utförande av mekanisk uppriktning, läckagekontroller, verktygsanslutningar och gemensam SAT-testning.
Processträning:Operatörs- och underhållsutbildning som täcker receptprogrammering, service av jonkällor och pumpregenerering.
Livscykelsupport:Integrering av fjärrdiagnostik och lokaliserad reservdelslagerhantering.
FAQ
F: Hur förhindrar jonassistans optisk våglängdsförskjutning?
S: Energiskt jonbombardement komprimerar filmstrukturen genom att överföra momentum till adatomer, vilket eliminerar mikroskopiska tomrum. Detta förhindrar absorption av luftfuktighet, låser brytningsindex och stabila transmissionsspektra.
F: Vad är underhållsprotokollet och stilleståndstiden för jonkällan?
S: Gridless end-Halljonkällor kräver intern komponentinspektion var 200:e till 300:e processtimme. Kassettutformningen -snabbt-låter tekniker byta ut eller serva jonoptik och återställa kammaren till vakuum inom 2 timmar.
F: Kan systemet integrera både QCM och optisk övervakning?
A: Ja. Dubbla-övervakningskonfigurationer använder QCM för initiala baslagerhastigheter och optisk övervakning (OMS) för att spåra överförings-/reflektionsextrema för exakt kvarts-vågslagsavslutning.
F: Vilka är de primära brukskraven för en standardkammare på 900 mm?
A: 3-phase power (380V / 480V, 50/60 Hz), chilled cooling water (~ 15 to 20 deg C at 4 - 6 bar), compressed air (>= 0.6 MPa) och 99,999 % rena processgaser (Ar, O2) reglerade till 0.2 - 0.3 MPa.
Populära Taggar: tunnfilmsutrustning för jon-assisterad avdunstning, tunnfilmsutrustning för jon-tillverkare, leverantörer, fabrik, tunn filmutrustning för tillverkningsapplikationer för konstgjord intelligensenhet
