Jon-Utrustning för tunnfilmsavsättning

Jon-Utrustning för tunnfilmsavsättning

Detaljer
IA-Serien jon-assisterad tunnfilmsavsättningsutrustning integrerar elektron-termisk förångning med en Kaufman- eller End-Hall-jonkälla. Energiskt jonbombardement (argon/syreblandning) under avsättning överför momentum till atomer, eliminerar kolumnära tomrum, undertrycker fuktabsorption och stabiliserar brytningsindex. Designad för hög-precisions FoU och kontinuerlig produktion, den rostfria-stålkammaren håller ett bastryck under 5 x 10^-6 Pa för att leverera täta, stökiometriska tunna filmer för optik, sensorer och halvledare.
Produktklassificering
Tunnfilmsutrustning med jonassisterad-avdunstning
 
Skicka förfrågan
Beskrivning
Tekniska parametrar

IA-Serien jon-assisterad tunnfilmsavsättningsutrustning integrerar elektron-termisk förångning med en Kaufman- eller End-Hall-jonkälla. Energiskt jonbombardement (argon/syreblandning) under avsättning överför momentum till atomer, eliminerar kolumnära tomrum, undertrycker fuktabsorption och stabiliserar brytningsindex. Designad för hög-precisions FoU och kontinuerlig produktion, den rostfria-stålkammaren håller ett bastryck under 5 x 10^-6 Pa för att leverera täta, stökiometriska tunna filmer för optik, sensorer och halvledare.

 

Tekniska specifikationer

 

Parameter

Specifikationsdetaljer

Kammarmått

Phi 800 mm x 700 mm (kan anpassas upp till Phi 1200 mm)

Bastryck

<= 5.0 x 10^-6 Pa (Achieved within 40 minutes from atmosphere)

Arbetstryck

1,0 x 10^-2 Pa till 8,0 x 10^-1 Pa

Förångningskällor

Multi-pocket e-pistol (6 x 15 cc eller 4 x 40 cc) med svepkontroll

Typ jonkälla

Grid-baserad Kaufman / End-Hall (jonenergi: 50 - 1500 eV)

Substratfixtur

Planetrotation (0 - 25 RPM) med värmare (RT - 350 grader C)

Tjocklekskontroll

Dubbel-kanals kvartskristallmonitor (QCM)/optisk övervakningsalternativ

Pumpsystem

Magnetisk levitation turbomolekylär + rötter + roterande skovelstödpump

 

Nyckelfunktioner


Mikrostrukturförtätning:Samtidigt jonbombardement höjer packningsdensiteten nära bulkvärden genom att kollapsa korngränserna.


Inre stresskontroll:Justerbara jon-till-atoms ankomstförhållanden förhindrar filmdelaminering på spröda substrat (kisel, germanium, smält kiseldioxid).


Förbättrad vidhäftning:För-rengöring via jonetsning tar bort inhemska oxider och ytföroreningar före avsättning.


Closed-loopautomation:PLC-arkitektur automatiserar vakuumsekvensering, slutaraktivering, effektrampning och gas-MFC.


Termisk isolering:Vatten-kylda kammarväggar och strålningssköldar skyddar substrat från e-strålehärdsstrålning.

 

Konfiguration av vakuumsystem


Hög-vakuumpump:Magnetisk levitationsturbomolekylär pump (1600 L/s för N2) för olje-fri drift.


Grovbearbetningsstadiet:Direkt-driven roterande skovel tillsammans med en Roots-fläkt för snabb övergång.


Tätning och ventiler:Pneumatiska slussventiler med Viton/Metal bakeout-märkta tätningar.


Förreglingar:Pirani- och kallkatodmätare integrerade med övertrycksskyddskretsar.

 

Materialkompatibilitet


Förångningsmaterial:
Oxider (SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5)
Fluorer (MgF2, YF3)
Eldfasta metaller (Ti, Cr, Al)


Substratmaterial:
Smält kiseldioxid, optiskt glas, ZnSe, kiselwafers, GaAs, rostfritt stål.

 

Ansökningar


Precisionsoptik:Anti-reflekterande beläggningar, bandpassfilter och hög-reflektionsspeglar för laser- och DWDM-telekommunikationssystem.


IR Windows:Skyddande, hållbara anti-reflekterande filmer på germanium- och kiselvärmeoptik.


Halvledare:Dielektriska isoleringsfilmer och metallkontaktpassiveringsskikt.


Optoelektronik:Transparenta ledande oxidlager för sensorarrayer och platta paneler.

 

Anpassningsalternativ


Kammargeometri:Skräddarsydda kuvertmått för specialiserade produktionsjiggar eller stor-formatoptik.


Källintegrering:Dubbla e-pistolkonfigurationer, termiska motståndsbåtar eller reaktiva termiska sprickkällor.


Automatisering:SECS/GEM-kompatibla tänder-tillverkningsprogramvarupaket.


Substratfixturer:Anpassade hållare för böjda linser, mikro-prismor eller 300 mm wafers.

 

Kvalitetskontroll och fabrikstestning


Överensstämmelsestandarder:Byggd enligt CE och SEMI S2/S8 renrumsriktlinjer.


Läckagedetektering:Heliummasspektrometertestning på alla svetsar (läckagehastighet<= 1 x 10^-10 Pa*m^3/s).


Bränn in-:72-timmars kontinuerlig torrkörning av mekaniska genomföringar och förreglingar.


Enhetlighetsverifiering:Spektrofotometrisk analys som verifierar tjockleksfördelning inom +/- 1 % över hållaren.

 

Installation, ledtid och teknisk support


Leveranstidslinje:Leveranstiden för standardtillverkning, FAT och lådor är 16 till 20 veckor från teknisk signering- och insättning.


Webbplatsförberedelser:Omfattande bruksanvisning tillhandahålls i förväg (specificerar kylvattenflöde, 380V effekt och tryckluft).


Driftsättning:Installation, kalibrering och processjustering på-plats av seniora fältingenjörer.


Livscykelsupport:Lokalt lagrade kritiska reservdelar (filament, kvartskristaller, tätningssatser) för snabb leverans.

 

Vanliga frågor

 

F: Vad är underhållsintervallet för jonkällan?

S: Nätrengöring och filamentbyte sker var 150:e till 300:e drifttimme, beroende på reaktiva gaser. Snabb-design tillåter byten på under 30 minuter.

F: Hur påverkar -jonassisterad deposition (IAD) optiska beläggningar?

S: IAD eliminerar fuktförskjutningar genom att kollapsa pelarstrukturer. Till exempel bibehåller SiO2-filmer ett stabilt brytningsindex på 1,46 i fuktiga miljöer.

F: Hanteras reaktiva gasprocesser säkert?

A: Ja. Massflödesregulatorer reglerar O2- eller N2-injektion direkt in i jonkällan, med stöd av automatiska avstängnings-säkerhetsventiler och reningscykler.

F: Vilka är verktygskraven?

A: Chilled cooling water (>= 50 L/min, 18 - 22 grader C), tryckluft (0.4 - 0.6 MPa) och dedikerade 3-fas elektriska matningar.

 

Populära Taggar: jon-avsättningsutrustning för tunnfilm, Kina -assisterad tunnfilmsavsättningsutrustning, tillverkare, leverantörer, fabrik, tunn filmutrustning för IoT -enhetstillverkningsapplikationer, Tunt filmvakuumsystem

Skicka förfrågan
Kontakta ossom du har några frågor

Du kan antingen kontakta oss via telefon, e-post eller onlineformulär nedan. Vår specialist kommer att kontakta dig inom kort.

Kontakta nu!