Elektronstråleavdunstning tunnfilmssystem

Elektronstråleavdunstning tunnfilmssystem

Detaljer
EBE-seriens elektronstråleförångningssystem är konstruerat för fysisk ångavsättning (PVD) av hög-smältpunkt-metaller, dielektriska och optiska material. Genom att använda en magnetiskt avböjd, fokuserad elektronstråle direkt på källmaterial i vatten-kylda deglar, uppnår systemet höga avsättningshastigheter samtidigt som det upprätthåller en föroreningsfri- vakuummiljö.
Produktklassificering
Elektronstråleavdunstning tunnfilmsutrustning
 
Skicka förfrågan
Beskrivning
Tekniska parametrar

EBE-seriens elektronstråleförångningssystem är konstruerat för fysisk ångavsättning (PVD) av hög-smältpunkt-metaller, dielektriska och optiska material. Genom att använda en magnetiskt avböjd, fokuserad elektronstråle direkt på källmaterial i vatten-kylda deglar, uppnår systemet höga avsättningshastigheter samtidigt som det upprätthåller en föroreningsfri- vakuummiljö.


Den här plattformen är inriktad på produktionslinjer och avancerade forskningslaboratorier och stöder tillverkning av fler-tunn-film med exakt hastighetskontroll, vilket gör den lämplig för optiska interferensfilter, halvledarmetallisering och slitstarka-beläggningar.

 

Tekniska specifikationer

 

Parameter

Specifikation

Bastryck

Mindre än eller lika med 5 × 10⁻⁷ Torr (uppnås inom 45 minuter)

E-Gevärsstyrka

3 kW till 10 kW (svepfrekvens: 0–100 Hz, programmerbar)

Degelkonfiguration

4 till 6 fickor; kapacitet från 7 cc till 40 cc per ficka

Substratstadiet

Vatten/värmare-kyld; rotationshastighet 0–30 RPM; förspänningsalternativ tillgänglig

Filmtjocklekskontroll

Dubbel-kanals QCM-kontroller (upplösning: 0,03 Å); optisk övervakning tillval

Kammarmått

304L rostfritt stål, elektropolerat; innerdiameter 500 mm till 800 mm

Pumppaket

Turbo molekylär pump (1200 L/s) stödd av en roterande lamell/scrolltorrpump

 

Nyckelfunktioner


Magnetisk strålavböjning:270 graders böjning av e-pistolgeometrin håller glödtråden skyddad från direkt linje-av-siktmaterial, vilket förhindrar kortslutning och nedbrytning av glödtråden.


Closed-Loop Rate Control:Integrerar fler-kvartskristallsensorer med proportionell-integral-derivat (PID) algoritmutgång för att reglera e-emissionsström och avsättningshastighet dynamiskt.


Modulärt degeldäck:Indexeringsmekanismen använder ferrofluidiska genomföringar och direkt-stegmotorer för snabb, partikelfri -degelbyte under vakuum.


Interlocked Safety Architecture:Hårdvarulås på-nivå övervakar kylvattenflöde, vakuumtrösklar och kammardörrstatus för att skydda operatörer och hög-komponenter.

 

Konfiguration av vakuumsystem


Vakuumunderenheten- är byggd för renhet och snabb cykling:


Grovbearbetning & Foreline:Olje-fri torr scrollpump (kapacitet: 30 m³/h) eliminerar kolväten som återströmmar in i huvudkammaren.


Högt vakuum:Sammansatt turbo-molekylär pump stödd av elektropneumatiska slussventiler och pneumatiska vinkelventiler.


Tryckövervakning:Kombinerade Pirani och Bayard-Alpertjonmätare ger real-feedback över atmosfären till ultra-högt vakuum (10⁻⁹ Torr).


Bakeout-förmåga:Valfria infraröda värmare av kvarts eller mantelvärmare möjliggör termisk avgasning av kammaren för att nå bastrycktröskelvärden snabbare.

 

Filmmaterial och substrat


Källmaterial som stöds
Eldfasta metaller:
Ti, Ta, W, Mo, Cr, Ni, Au, Ag, Al, Cu.


Dielektrika och oxider:Si02, TiO2, Ta2O5, AI2O3, HfO2, Nb2O5.


Substratkompatibilitet
Halvledarskivor:
2-tums till 8-tums kisel, GaAs, safir.


Optiska substrat:Fused silica, BK7, Zerodur, germanium, och zink selenid linser/prismor.


Flexibla underlag:Polyimidfilmer (via specialiserade rull-till-rullar eller bärarplattor).

 

Ansökningar


Laseroptik:Avsättning av låg-spridning, hög-laser-skada-tröskel (LIDT) dielektriska staplar (TiO₂/SiO₂) för hög-effektspeglar och stråldelare.


Halvledare och mikroelektronik:Avsättning av grindmetall, bildning av ohmsk kontakt och-lyft metalliseringsprocesser för diskreta enheter och sensorer.


Optoelektronik:Transparenta ledande oxid (TCO) lager och metall katod förångning för OLED och fotovoltaiska cell tillverkning.

 

Anpassningsalternativ


Varje produktionsmiljö har unika layout- och integrationsbegränsningar. Fabrikstekniska ändringar inkluderar:


Kammargeometri:Anpassade portplaceringar för in-diagnostik (t.ex. Ellipsometri, SIMS eller RHEED).


Ladda-Låsintegration:Linjära magnetiska överföringsarmar eller automatisk pneumatisk gaffelöverföring för anslutning till klusterverktyg eller handskboxlinjer.


Substratförspänning och uppvärmning:RF/DC bias strömförsörjning för jon-assisterad deposition (IAD) och substratvärmning upp till 800 grader.


PLC & HMI-lokalisering:Siemens S7 eller Allen-Bradley PLC-styrarkitekturer som uppfyller specifika protokoll för anläggningsautomatisering.

 

Kvalitetskontroll och testning


Läcktestning:Varje svetsad kammare av rostfritt stål är heliummasspektrometerläckage-testad till en känslighet på < 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s före montering.


Hög-isolationstest:Strömförsörjningar för e-pistoler genomgår dielektriska hållfasthetstestning vid 1,5× märkspänning plus 1000V i 60 sekunder.


Factory Acceptance Test (FAT):System genomgår en kontinuerlig 72-timmars förbränning-i testet, verifierar pumphastighetskurvor, e-gun svepkalibrering och filmtjocklekslikformighet över testsubstrat innan de packas.

 

Installation & teknisk support


Dokumentationspaket:Omfattande manualer inklusive elektriska scheman, P&ID-diagram, PLC-källkoder, materialsäkerhetsdatablad och kalibreringscertifikat.


På-webbplatstjänster:Fabrikscertifierade-serviceingenjörer hanterar mekanisk montering, nätanslutningar (kylvatten, avgaser, ström) och testning av platsacceptans (SAT).


Fjärrdiagnostik:Säker VPN-routerintegration möjliggör fjärrfelsökning, parameteroptimering och mjukvaruuppdateringar av seniora processingenjörer.

 

Vanliga frågor

 

F: Vad är standardstopptiden för pumpen- för att nå driftsbastrycket?

S: Med standard 1200 L/s turbo-molekylär pumpkonfiguration når en tom, torr kammare Mindre än eller lika med 5 × 10⁻⁷ Torr på mindre än 45 minuter från atmosfären.

F: Hur förhindrar systemet kors-kontamination mellan olika material?

S: Systemet använder en degelhärd med flera-fickor innesluten i ett vatten-kylt kopparblock, kombinerat med ett automatiskt fysiskt slutarsystem som isolerar fickor under inaktiva eller för-smältningsfaser.

F: Kan det här systemet integreras i ett befintligt handskfack i inert-atmosfär?

A: Ja. Vi erbjuder skräddarsydda flänsanpassningar och slussventilkonfigurationer på kammarsidan eller bakväggen för att docka direkt med standardhandskfack för luft-känslig materialhantering.

 

Populära Taggar: elektronstråleindunstning tunnfilmssystem, Kina elektronstråleindunstning tunnfilmssystem tillverkare, leverantörer, fabrik, ferroelektrisk tunn filmutrustning, industriell tunnfilmutrustning, Magnetron sputtering tunn filmutrustning, tunn filmutrustning för metalliseringsapplikationer, tunn filmutrustning för NEMS -tillverkningsapplikationer, tunn filmutrustning för smarta enhetstillverkningsapplikationer

Skicka förfrågan
Kontakta ossom du har några frågor

Du kan antingen kontakta oss via telefon, e-post eller onlineformulär nedan. Vår specialist kommer att kontakta dig inom kort.

Kontakta nu!